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第363章 进军半导体（第1页）

李景明面前的林坚，此时已经是国内外出名的技术专家，他一系列突破性的创新，所开拓的浸润式微影（也称光刻）方法，革新了集成电路的制程，使先进半导体芯片的特征尺寸能持续缩减为细微纳米量级，为建造最强大的计算和通信系统做出了关键贡献。

五年前，林坚发明了“浸润式微影技术”

，彻底改变了集成电路的生产。

这项技术是在透镜和硅片表面的间隙中，用水代替空气以提高分辨率。

当全世界的半导体研发团队都在专注于157纳米波长技术时，林本坚创造性地以193纳米波长的光，通过水作为介质，将其缩短至134纳米。

林本坚通过反复实验，证明了这种方法是可行的，于是信心满满的他拿着方案去跟美日知名半导体公司交涉。

想象很美好，现实很残酷。

美日的光刻机巨头企业们对林坚这种“投机取巧”

的方法并不看好，他们认为在镜头和硅片之间加入水会产生水泡并造成污染，从而破坏芯片生产时完全无污染的环境，最后大大降低良品率。

美日企业巨头们偏执地认为只有好好研究如何通过光源技术降低光源波长才是正道，林本坚的方法是幼稚的，并不能考虑采用。

被拒绝的林坚并没有放弃，他不断优化改良方案，一次次地上门推荐自己的技术。

然而这并没有让美日企业们另眼相看，而是不耐烦的给台积电cEo写信，让他管管自己的下属，不要再去打扰他们了。

无奈之下林坚只好找上了当时还籍籍无名的荷兰ASmL公司，当时的ASmL公司可以用小作坊来形容，整个公司也就30来号人，老板身兼数职，充当保安和出纳。

可以说完全不能跟尼康比，但就是这样的一家公司，他们很认可林坚的方案，并为此投入资金让林本坚大展身手。

林坚也没有让ASmL公司失望，不到一年，林本坚就研发出了132nm的浸润式光刻机。

ASmL也由此一夜山鸡变凤凰，一举打破了当时日本尼康的垄断地位，成为行业老大。

后来虽然尼康也采用相同的方法研发出了浸润式光刻机，但是后来者很难居上，尼康始终被ASmL压了一头。

李景明这边并不是将林坚挖了过来，而只是请林坚为国内前来的一众科研工作者详细讲解整个光刻机的制造原理和制造方法。

“李总，我知道你想在大陆打造半导体产业，不过我觉得这样是徒劳无功的。”

林坚带着李景明围绕着拆撒的光刻机边走边看。

“林老如何这么肯定。”

李景明好奇的问道。

“其实光刻机的整个原理不难理解，制作上也并不难以开发。

主要是光刻机设计的零件太多了，它需要各个国家供应，国际上这些零件是限制对国内出口的，所以国内想做光刻机几乎是没可能的。”

林坚解释道。

林坚知道李景明想做半导体，但国内落后太多，而且这是需要好多领域一同推进的。

自己出言提醒，也是因为收了李景明几千万的费用，不愿见其投资巨大却无功而返。

“比如高精度镜片系统（如德国蔡司的镜片），其表面光滑度需达到原子级误差，国内镜片制造能力尚未满足要求。”

林坚指着光刻机上的一个零件说道。

“再比如，光刻机的对准系统、精密机械部件（如双工件台）、光学掩模版等，这些国内目前都是做不出的。”

林坚继续说道。

“光刻机涉及超10万个零部件，需全球供应链协同，要想达到100%自产，简直天方夜谭。